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标题: PVD与CVD方法沉积的SiO2、SiN膜层性能有什么差异？ [打印本页]

作者: 王鹏 时间: 2013-5-22 09:02
标题: PVD与CVD方法沉积的SiO2、SiN膜层性能有什么差异？
主要想知道致密性、耐腐蚀性、应力之间有何差异。另还想问一下能使用PVD方法制备SiN薄膜吗？其性能又与CVD方法沉积的薄膜差异怎样？

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