旋涂法制备ZnO薄膜时薄膜无法附着在基底表面的原因有哪些？

利用旋涂法在基底硅上制备ZnO薄膜,前一段时间制得的膜相对来说还比较均匀,但是这周开始溶胶前驱体一直没法旋涂在基底上,每次等旋涂仪旋转完后,基底表面的溶胶都挥发完了,不能在表面成膜,试了各种旋涂速度和时间,但是都不行,请问有谁遇到过这种情况吗？这种现象的原因是什么？